Neutral beam etching system

英 文 Neutral beam etching system

中 文 中性束蝕刻系統

出 處 電子工程

Neutral beam etching system 中性束蝕刻系統 【電子工程】

electron beam exposure system 電子束曝光系統 【電子工程】

high beam and low beam combination system 高低波束系統 【電子工程】

beam antenna system 射束天線系統；定向天線系統 【電機工程】

neutral direct current system (inverse) 中性直流系統（反相） 【電機工程】

neutral beam injection 中性射束射入 【電機工程】

modulated-beam photoelectric system 調變束光電系統 【電機工程】

Chemically assisted ion beam etching{=CAIBE} 化學輔助離子蝕刻 【電子工程】

focused ion beam etching 聚焦離子束蝕刻 【電子工程】

reactive ion beam etching{=RIBE} 反應式離子束蝕刻 【電子工程】

electro-beam scanning system 電子束掃描系統 【電機工程】

electron beam scanning system 電子束掃描系統 【電機工程】

electron beam exposure system 電子束曝光系統 【電機工程】

electron beam deflection system 電子束偏轉系統 【電機工程】

electron beam exposure system 電子束曝光系統 【電子計算機名詞】

multi-beam sounding system 多波束測深系統 【海洋科學名詞-造船工程】

ion-beam etching 離子束蝕刻[法] 【化學工程名詞】

beam limiting system 射束限制系統 【計量學名詞】

electro-beam scanning system 電子束掃描系統 【電力工程】

modulated-beam photoelectric system 調變束光電系統 【電力工程】