MCVD (Modified Chennical Vapor Deposition)

英 文 MCVD (Modified Chennical Vapor Deposition)

中 文 改良化學氣相澱積法

出 處 通訊工程

MCVD (Modified Chennical Vapor Deposition) 改良化學氣相澱積法 【通訊工程】

Modified Chemical Vapor Deposition{=MCVD} 改良化學迄相澱積法 【通訊工程】

modified chemical vapor deposition{=MVCD} 改良化學氣相澱積法 【電子計算機名詞】

chemical vapor deposition method 化學蒸汽沉積法 【資訊與通信術語辭典】

vapor deposition 氣相沉積 【電子工程】

vacuum chemical vapor deposition 真空化學氣相沉積 【電子工程】

ultra-high-vacuum chemical vapor deposition{=UHV/CVD} 超高真空化學氣相沉積 【電子工程】

Ultrahigh vacuum Chemical Vapor Deposition{=UHVCVD} 超高真空化學氣相沉積 【電子工程】

High density plasma chemical vapor deposition{=HDPCVD} 高密度電漿化學氣相沈積 【電子工程】

Ion plating and other vapor deposition 離子鍍與氣相沉積技術 【電子工程】

Aerosol assisted Chemical Vapor Deposition{=AACVD} 氣懸膠體輔助化學氣相沉積 【電子工程】

Enhanced chemical vapor deposition 增量化學氣相沉積 【電子工程】

chemical vapor deposition{=CVD} 化學氣相沉積 【電子工程】

Chemical Vapor Deposition 化學氣相沉積法 【電子工程】

dual-plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition{=DPEMOCVD} 雙電漿增強金屬有機化學氣相沉積 【電子工程】

jet vapor deposition{=JVD} 噴射氣相沉積 【電子工程】

laser induced chemical vapor deposition{=LICVD} 雷射誘發化學氣相沉積 【電子工程】

Low-pressure chemical vapor deposition 低壓化學氣相沈積 【電子工程】

low pressure metalorganic chemical vapor deposition 低壓有機金屬化學氣相沉積 【電子工程】

low pressure chemical vapor deposition{=LPCVD} 低壓化學氣相沉積 【電子工程】