瀝青混凝土攤鋪機

[拼音]:jiguang fangdian

[英文]:laser discharge

由鐳射引起的氣體放電。鐳射照射氣體引起氣體電離或擊穿,主要由兩種機制形成:

(1)多光子過程;

(2)電子崩或多電子串激過程。前者是氣體原子連續吸收幾個光子,使電子獲得的能量超過電離能而成為自由電子,又稱光學擊穿。這種機制多發生在沒有充分的時間與空間條件形成電子崩的情況,例如鐳射脈衝作用時間很短,或鐳射作用在低氣壓狀態的氣體中。在高氣壓及寬脈衝作用下,電子崩的電離機制佔主要地位。照射區域的初始電子與原子發生碰撞,從光獲得能量,直至能量積累到足以引起碰撞電離的程度。

氣體被鐳射擊穿需有一定的閾值場強,超過此場強後擊穿才會發生。表示閾值的物理單位有輻射流的能量密度,光子流或光波的電場強度等,其數值與氣體種類、氣壓、鐳射波長、焦斑直徑、脈衝時間等多種因素有關。表中所列為空氣中鐳射擊穿閾值的一組試驗值。

對已有外施電壓的電極間隙進行鐳射照射,可以形成導向擊穿或觸發火花間隙。導向擊穿多應用於長間隙放電,沿電極軸向射入鐳射,藉助於鐳射通道使氣體電離,火花即沿此通道發展。鐳射照射可降低擊穿電壓,使兩極間在低於靜態擊穿電壓情況下發生擊穿。例如,曾有人試驗在5兆伏情況下,用鐳射引起了40~50米間隙擊穿。

利用鐳射觸發火花間隙可以做成準確動作的開關,在高電壓、大功率脈衝試驗裝置中經常使用。鐳射間隙是在一個電極中間鑽孔,通過透鏡射入鐳射,並將鐳射聚焦在間隙中間的某一位置。鐳射射入之前間隙已加電壓,但尚未擊穿。當鐳射照射後,即刻促使間隙放電而導通。

試驗表明,鐳射焦點位於陽極表面時,間隙放電時延最小。放電時延還與間隙上已經存在的電場強度 E和氣體壓力P等因素有關。圖中所示為放電時延△t隨電極間隙施加電壓的變化曲線。極距d=11.6釐米,氣壓P=630託,間隙靜態擊穿電壓VSB=30.7千伏。當外施電壓達80%VSB時,放電時延就很小了。