化學氣相沉積法
中 文 化學氣相沉積法
出 處 電子工程
相關詞匯
中文詞彙 | 英文翻譯 | 出處/學術領域 |
---|---|---|
化學氣相沉積法 | Chemical Vapor Deposition | 【電子工程】 |
有機金屬化學氣相沉積法 | metal organic chemical vapor desposition{=MOCVD} | 【電子工程】 |
金屬有機氣化學氣相沈積法 | metallorganic chemical vapor deposition | 【化學工程名詞】 |
金屬有機化學氣相沈積法 | metallorganic chemical vapor deposition | 【化學工程名詞-兩岸化學工程名詞】 |
真空化學氣相沉積 | vacuum chemical vapor deposition | 【電子工程】 |
超高真空化學氣相沉積 | ultra-high-vacuum chemical vapor deposition{=UHV/CVD} | 【電子工程】 |
超高真空化學氣相沉積 | Ultrahigh vacuum Chemical Vapor Deposition{=UHVCVD} | 【電子工程】 |
有機金屬化學氣相沉積 | MOCVD | 【電子工程】 |
氣懸膠體輔助化學氣相沉積 | Aerosol assisted Chemical Vapor Deposition{=AACVD} | 【電子工程】 |
增量化學氣相沉積 | Enhanced chemical vapor deposition | 【電子工程】 |
化學氣相沉積 | chemical vapor deposition{=CVD} | 【電子工程】 |
雙電漿增強金屬有機化學氣相沉積 | dual-plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition{=DPEMOCVD} | 【電子工程】 |
雷射誘發化學氣相沉積 | laser induced chemical vapor deposition{=LICVD} | 【電子工程】 |
低壓化學氣相沉積氧化介電層 | LPCVD oxide dielectrics | 【電子工程】 |
低壓化學氣相沉積摻雜聚合矽 | LPCVD doped polysilicon | 【電子工程】 |
低壓有機金屬化學氣相沉積 | low pressure metalorganic chemical vapor deposition | 【電子工程】 |
低壓化學氣相沉積 | low pressure chemical vapor deposition{=LPCVD} | 【電子工程】 |
低壓化學氣相沉積介電 | low pressure chemical vapor deposited dielectrics | 【電子工程】 |
金屬有機物化學氣相沉積 | Metalorganic chemical vapor deposition{=MOCVD} | 【電子工程】 |
微波電漿輔助化學氣相沉積 | microwave plasma assisted chemical vapor deposition{=MPCVD} | 【電子工程】 |